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100%国产自研芯片诞生 超纯水设备为产业“保驾护航”

作者:莱特莱德发表时间:2021-11-29

  近两年来,芯片一直是科技界的热门话题,不仅因为半导体芯片领域关系到一个国家未来科技发展的高度,还因为国内芯片市场正面临来自西方的严格技术封锁。国人期待着尽快摆脱依赖,实现100%的本土化替代。

  100%国产自研芯片诞生了

  令人兴奋的是,在国家的干预下,中国的芯片产业终于得到了足够的重视。在科研机构和科技企业的共同努力下,近期国内市场出现了大好消息,国内100%自主研发的芯片诞生了。

  关于芯片生产流程,很多人都有一种固有的印象,即“设计、制造、封装和测试”这四个步骤就是这四个步骤,但其实,芯片架构是较上游的行业。换言之,如果没有底层架构,芯片设计是不可能的,用国外架构构建的芯片很难被称为纯国产。

  因此,迫切需要实现芯片体系结构的自主性。幸运的是,中科院已经未雨绸缪地开启了自研架构之路,经过多年的努力,终于依托龙芯自主架构LoongArch打造出了纯国产芯片3A5000,在性能方面,龙芯3A5000的传动效率和功耗均达到国际优质水平。除了3A5000面向CPU的处理器外,龙芯中科还构建了基于LoongArch架构的服务器业务3A5000L芯片,可应用于云计算、数字建设、数据中心等许多重要领域。

  超纯水设备为产业“保驾护航”

  在芯片生产中,几乎每一道工序都需要超纯水清洗,工件与水直接接触。一旦水质不合格或水中含有杂质,就会降低装置的性能,降低产量。确保超纯水的质量是中国自主研发芯片的重要基础。

  传统的超纯水处理工艺为单级/两级反渗透设备+混床。其缺点是需要再生,不能连续制水,不仅工作效率低,而且浪费资源。目前,超纯水生产工艺大多采用反渗透设备+EDI+精处理混床,不需要回收化学品的再生,有效降低了运行成本。莱特莱德芯片超纯水设备生产的水质除水分子外几乎不含杂质,电阻率可达18MΩ·CM,满足芯片用水需求。

  反渗透系统利用反渗透原理去除水中的溶解盐、有机物、胶体和大分子。降低水质中的离子含量。EDI是结合离子交换膜技术和离子电迁移技术的超纯水制造技术。它不需要酸碱再生,是一种新的脱盐方法。超纯水设备无需回收化学品即可处理超纯水,运行成本低,自动化程度高,连续运行,出水水质稳定,出水电阻率高≥ 15mΩ·cm。超纯水处理系统末端净化器采用精处理混床。设计、制造和生产的半导体级混床离子交换树脂可将水中离子含量降至ppb级,出水电阻率可达18.2mΩ·cm。这足以确保芯片生产用水的纯度。

  结语

  随着龙芯中科的LoongArch架构生态的日益成熟,因供应中断而被迫出售业务的情况可能不会再次发生,国内企业从此可以挺身而出。可以预见,在国内替代趋势的推动下,未来必然会出现更多更好的纯国产芯片。

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